中國EUV研發難突破 高端芯片難產

【新唐人北京時間2025年05月27日訊】近日,中共央視刪除了中國科技巨頭華為5納米芯片的報導,引發關注。在美國的制裁下,華為無法取得EUV光刻機生產7納米以下的芯片。業內人士和學者披露,EUV光刻機的研發極難突破,中國至少十年都沒能力製造高端芯片。

5月24日,中共央視報導華為鴻蒙電腦搭載了5奈米芯片「麒麟X90」,顯示華為已經突破美國的制裁,但報導不久之後就被刪除,引發關注。

中國芯片大廠產品經理易先生:「我們國內最先進的製程目前是沒有能力,問題在於光刻機是太難突破了,中芯國際7奈米的產能,滿足華為都不夠,7奈米的良率現在也就是徘徊在五成左右,做到5奈米,良率超級低。其它芯片公司一般都是在做12奈米或14奈米的,良率也不行。」

據了解,美國禁止荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾(ASML) 對中國出口EUV(極紫外光)光刻機,導致中國無法生產7奈米以下的高端芯片。2021年,中芯國際使用DUV(深紫外光)光刻機多重曝光,做出了7奈米芯片。

中國微電子博士陳堯(化名)透露,國內多所大學合作研發的EUV光刻機,至少要十年才可能問世。

中國微電子博士陳堯:「國內光刻機正嘗試28奈米。現在要攻克的,在光方面,極窄帶的紫外光,至少需要5年左右,之後需要高精度的研磨板跟精密機器這一塊兒,至少還得再需要3到5年,之後商用還得需要至少2到3年的時間。」

由深圳市國資委投資的芯片設備大廠新凱來,今年三月底公布研發出適用於300毫米晶圓的28奈米浸潤式光刻機。化名王耀的華為前工程師透露,國企貪腐嚴重,所以當年他沒去新凱來。

中國半導體大廠工程師王耀:「這幾次制裁已經讓華為放棄了所有的幻想。2020年,新凱來剛成立的時候,就是華為內部調人的,只要你願意去,直接跟國家簽合同,一簽就是簽8年,由國家來出錢養這批人。」

美國針對中國半導體行業,去年底,將140家中國公司列入貿易黑名單。今年3月再增加54家;4月又禁止輝達出售AI芯片H20給中國。

王耀:「只要做半導體,它都必須得考慮這些風險,我現在在另外一家,它的半導體也是上到清單了,芯片現在拿不到了,庫存都快幹沒了呀,搞計算中心有風險的。」

新唐人電視台記者熊斌、高玉採訪報導

 

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