中共吹EUV光刻機獲突破 專家:至少20年差距

【新唐人北京時間2025年07月24日訊】近日,中共官媒大量報導有關「中國極紫外光刻機技術有重大突破」的消息,其實是把還處於實驗室階段的成果誇大其詞。專家表示,光刻機是一個微觀且巨大的工程,對人才和社會制度都有非常高的要求。中國的光刻技術要想達到荷蘭光刻機巨頭阿斯麥的水平,可能還需要30年。

光刻機主要由光源、透鏡及機台三大部分組成,光源部分尤其關鍵,目前的主流是艾司摩爾的LPP方案。陸媒近日報導了多種光源路線在中國實驗室所謂「取得實質突破」,似乎中國產極紫外光刻機已指日可待。而專家表示,中國這類新聞基本都是假的。

台積電前採購經理薛宗智:「你只要看到他會發新聞的都是假的,因為中國的方式喜歡敲鑼打鼓,說它有多厲害。」

薛宗智:「因為如果它真的有做出來,他是不會想要讓你知道的。因為你讓人家知道,人家就管制你,你就是自殺嘛。」

台灣國防安全研究院戰略與資源所所長蘇紫雲:「這種是實驗室性質的,所以它要到大規模的商業生產性質,還有一大段路要走。」

薛宗智:「這種從實驗室做完到可以量產,有時候二十年都做不到。」

專家們強調,光刻機這種微觀而巨大的精密製造系統,中共靠砸錢是做不出來的。

台灣工研院政策與區域研究組組長李冠樺:「光刻機它是一個很精密的系統,那這個精密系統裡面它涵蓋了關鍵的模組,那這些關鍵模組又有一些關鍵的零組件的一個組成。這每一步其實是要非常緊密精細的配合。」

蘇紫雲:「在中共這種體制之下,任何人都沒有真正的安全,因為黨可能隨時在一黨專政的情況之下,可能隨時會說是洩密或是其他的安全問題,所以留不住這種真正高端的人才。」

美國智庫「安全與新興技術中心」的最新數據顯示,在2019至2024年間,荷蘭佔據了光刻工具市場份額的79%,其次是日本佔比17%。中國佔比僅4%,而且只掌握了傳統365奈米芯片的製造技術。

蘇紫雲:「在這種情況下才有業界評估,在硬體也就是光刻機的技術上,中共可能一般來講有30年的差距。」

新唐人電視台記者張勤、易如採訪報導

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