【新唐人北京時間2026年10月06日訊】美國研究機構最近指出，在美國限制向中國出口先進半導體製造設備之際，中共仍取得數百台可用於製造先進芯片的深紫外線（DUV）光刻機，顯示現行出口管制可能存在漏洞，並建議全面禁止向中國出口此類設備。請看報導。
9月26號，總部位於華盛頓的研究機構科技與國家治理能力中心（Centre for Technology & Statecraft）發表報告指出，截至2026年初，中國的芯片廠預計已獲得343台深紫外光刻機（DUV），其中包括約270台荷蘭ASML的NXT:1980i、22台NXT:2050i等。
報告的作者包括前美國出口管制官員與前美國商務部技術政策顧問。
報導指出，美國制定了出口管制，禁止向中國出口極紫外光刻機（EUV），所以中國芯片製造商高度依賴DUV光刻機。
台灣國防戰略與資源研究所所長蘇紫雲：「北京它買這麼多機台，主要還是作為儲存零組件使用，以免將來西方國家如果政策改變了，又可能會對它實施這個機台的禁運。所以它就是兩條線：一條是目前向西方買機台作為備份；第二就是走國產路線。這大概是它策略。」
台灣國防戰略與資源研究所所長蘇紫雲指出，美國與西方目前的策略是，放行7nm的光刻機，以維持在10年到15年的技術差距上，運行它生產手機、汽車、電腦或其他家電芯片。這樣做，一是不至於刺激中共更加加速國產化，第二是西方也不損失出售設備的經濟收益。
荷蘭於2023年9月起實施對ASML的NXT:2000i及更先進光刻系統實行出口許可制度。自那時起，這些型號的設備已被禁止出口至中國。一年後，許可要求擴大到了NXT:1980i機型，但該機型可按個案進行審批。
不過，僅在2024年至2025年間，中國在購買NXT:1980i的支出就超過130億美元。
CTS報告說，如果中國進口維持2024至2025年水準，那麼在未來五到十年內，中國積累的光刻產能可能足以縮小、甚至消除美國及其盟友目前在人工智慧芯片製造領域擁有的巨大優勢。
台灣國防安全研究院研究員沈明室指出，中國擁有的這批設備，同時解決了算力跟存儲硬體問題。
台灣國防安全研究院研究員沈明室：「根據智庫的報告精算，這批設備理論上完全可以支撐中國未來幾年內AI晶片的商業化或者規模化的生產。因為一臺的NXT1980i 每年就可以生產超過10萬顆華為升騰910C的AI加速晶片。它有270臺，這批設備的潛在總產能，遠遠超過當前AI晶片市場的初步需求。」
蘇紫雲表示，從風險上看，中共能用7奈米以上的芯片組成方陣，在某個程度上達到譬如像台積電的2奈米，甚至是埃米級芯片水準，但這會導致耗電量巨大問題，也不適合用於獨立的裝備上。所以，整個西方對中國芯片產業採取的是風險控制的概念。
蘇紫雲：「西方國家的策略就是，在陸地上的計算中心、資料中心，中國可以以量來平衡；可是最終就在個別的戰場上，不管是飛機、飛彈，這些對重量高度敏感的裝備，就不能使用這種舊款的晶片，那麼西方還是可以維持大幅領先的局面，自駕車也是。」
CTS報告最後建議，美國只需進行一項簡單的政策調整，即可避免這一漏洞：即將現行針對極紫外光刻設備的局部管制措施，轉變為針對所有對中國出口的深紫外光刻機全面禁令。
實際上，今年4月，美國國會提出硬體技術管制多邊協調法案《Match Act》，芯片製造設備對中國銷售及服務的限制，明確限制DUV光刻設備。
沈明室表示，光刻機由幾萬個高精密零組件所組成，而且還有高消耗品。如果失去原廠的維護，設備會就在一到兩年內就會面臨停機風險。
沈明室：「這樣做呢，會受到荷蘭政府或ASML的抵抗。因為荷蘭認為，如果切斷既有合約的售後服務，等於侵犯了主權跟商業的誠信，會嚴重重創ASML他本身的基本面的營收。美國正在推動一些相關的法案，然後將管制衍生到低溫蝕刻設備，還有一些配套的工具上。」
沈明室指出，光有光刻機還不能生產芯片，還必須配有多重曝光所需的先進薄膜，沉積設備與刻蝕機才行。如果實施限制會涉及到多國利益，需要達成一致才行。
編輯/宋風 採訪/駱亞 後製/Tony